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多晶的低成本、單晶的高效率——鑄錠單晶,平價上網(wǎng)時代的最佳選擇
日期:2019-05-31   [復(fù)制鏈接]
責(zé)任編輯:chengling 打印收藏評論(0)[訂閱到郵箱]
編者按:保利協(xié)鑫基于鑄錠單晶技術(shù)路線,已順利推出第三代產(chǎn)品“鑫單晶G3” ,隨著鑄錠單晶技術(shù)的進(jìn)一步提升、原料利用率的進(jìn)一步提高,必將成為平價上網(wǎng)時代的最佳選擇。

鑄錠單晶(cast-mono wafer),是指采用多晶鑄錠爐,在常規(guī)多晶鑄錠工藝的基礎(chǔ)上加入單晶籽晶,定向凝固后形成方型硅錠,并通過開方、切片等環(huán)節(jié),最終制成單晶的硅片?;谠摷夹g(shù)路線,保利協(xié)鑫目前已順利推出第三代產(chǎn)品“鑫單晶G3”(GCL cast-mono G3 wafer)。

鑄錠單晶并非新興技術(shù)。早在2011年,保利協(xié)鑫就已經(jīng)開始該類產(chǎn)品的研發(fā)。除協(xié)鑫的第一代、第二代鑄錠單晶產(chǎn)品之外,賽維LDK、晶澳、昱輝、鳳凰光伏等企業(yè)都陸續(xù)推出過類似產(chǎn)品。在市場上,這類產(chǎn)品被稱之為準(zhǔn)單晶(quasi-mono wafer)或類單晶(mono-like wafer)硅片。第一代鑄錠單晶硅片曾在2011年至2012年風(fēng)靡一時,由于出色的性能表現(xiàn),在市場上供不應(yīng)求,售價甚至一度超過了直拉單晶。

自2012年之后,基于小晶粒技術(shù)方向的高效多晶取得了突破并大規(guī)模量產(chǎn)應(yīng)用,很快占據(jù)了光伏硅片市場的主流地位。2016年之后,金剛線切片的升級改造、PERC電池逐漸代替全鋁背場電池等技術(shù)得到廣泛應(yīng)用,加之“領(lǐng)跑者”計劃的推波助瀾,單晶硅片市占率逐步從低谷崛起。

時至今日,保利協(xié)鑫七年磨一劍,第三代鑄錠單晶硅片橫空出世,以多晶的低成本、單晶的高效率,再次受到業(yè)界廣泛關(guān)注。第三代產(chǎn)品較之傳統(tǒng)鑄錠單晶產(chǎn)品,消滅了以往鑄錠生產(chǎn)中容易產(chǎn)生的二類片及曾占成品高比例的三類片,有效解決了客戶使用硅片時必須搭配使用、照單全收的苦惱和尷尬,“鑫單晶G3”無論是外觀還是內(nèi)在的位錯密度,都無限接近直拉單晶硅片,為日趨多元化的光伏材料市場提供了一個極具競爭力的高效產(chǎn)品。

從晶體學(xué)上講,區(qū)別單晶和多晶的關(guān)鍵在于晶體結(jié)構(gòu)是否無限接近完美。以晶格結(jié)構(gòu)完整著稱的直拉單晶也不是無限完美的,它內(nèi)部仍然存在103/平方厘米左右的位錯密度。整體而言,直拉單晶與多晶最大的不同在于,由于晶格結(jié)構(gòu)較為完美,直拉單晶可以被認(rèn)為是一個巨大的晶粒,而多晶是由無數(shù)個不同晶向的均勻小晶粒構(gòu)成,位錯密度較之直拉單晶要高2個數(shù)量級左右。

鑄錠單晶——“鑫單晶G3”,其位錯密度上更接近于直拉單晶,晶胞個數(shù)降到個位數(shù)。鑄錠單晶硅片采用與直拉單晶相同的堿制絨,制絨后表面微觀結(jié)構(gòu)與直拉單晶一樣,同樣為規(guī)整的金字塔結(jié)構(gòu)。盡管在鑄錠單晶整張硅片不到1%的面積里,偶爾會出現(xiàn)個別不同晶向的晶胞,但是整個大方錠產(chǎn)出的鑄錠單晶硅片中,出現(xiàn)這一現(xiàn)象的硅片占總產(chǎn)品的比例,也不過幾個百分點。“鑫單晶G3”就其硅片品質(zhì)而言,已與直拉單晶無異,而鑄錠單晶技術(shù)本質(zhì)上是“物美價廉”的鑄造技術(shù)進(jìn)一步升級,是多晶硅片從大晶粒到小晶粒再到大晶粒的方向轉(zhuǎn)換,也印證了事物的發(fā)展是螺旋式上升波浪式前進(jìn)的辯證規(guī)律。


僅憑肉眼觀察鑄錠單晶硅片,與直拉單晶硅片幾無區(qū)別(圖1),只能從是否存在四個圓弧型倒角來判斷。另外,鑄錠單晶硅片還可采用亞微米級金屬催化濕法制絨,俗稱黑硅制絨,例如業(yè)內(nèi)tier one 的阿特斯陽光電力,就采用了其獨特的黑硅制絨法,硅片表面呈現(xiàn)倒金字塔的微觀結(jié)構(gòu),在電池外觀更加美觀的同時,更可以獲得與直拉單晶堿制絨不相上下的組件功率輸出。

“鑫單晶G3”產(chǎn)品具有以下幾個顯著的特點和優(yōu)勢:

一、生產(chǎn)成本低,轉(zhuǎn)換效率高。


正如中國科學(xué)院院士、浙江大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院教授楊德仁所言,“鑄造單晶將鑄造技術(shù)的低成本、低能耗、大尺寸優(yōu)勢和單晶的高效率、高質(zhì)量優(yōu)勢結(jié)合到了一起”。

“鑫單晶G3”在實際生產(chǎn)中,從單爐裝料量、晶體生長速度到成品率,從單位電耗到坩堝等耗材成本,乃至其自動化生產(chǎn)的便捷程度上,都比單晶制造的直拉法更有優(yōu)勢。此外,生產(chǎn)過程的能耗較低帶來了更高的碳足跡分值,這在注重產(chǎn)品生產(chǎn)過程碳足跡的法國等海外市場,能夠獲得更多客戶青睞。




在成本與鑄造多晶幾乎一樣低的同時,“鑫單晶G3”的電池效率擁有大幅提升。“鑫單晶G3”在多家客戶大批量應(yīng)用結(jié)果顯示,使用目前主流的PERC電池工藝,“鑫單晶G3”與直拉單晶電池的轉(zhuǎn)換效率絕對值差值,相差不到0.3%(圖2)。相較158.75mm尺寸的單晶全方片與同尺寸鑄錠單晶硅片制造的72片組件,其功率輸出相差不到5瓦(圖3)。在目前電站投資的成本模型中,采用72片385瓦的直拉單晶組件,與采用72片380瓦的“鑫單晶G3”組件相比,由于這5瓦功率差帶來的BOS成本節(jié)省幾乎可以忽略不計。作為一種新型產(chǎn)品,鑫單晶PERC電池的效率進(jìn)一步提升仍有較大空間,在進(jìn)一步優(yōu)化電阻率均值提高電池效率之后,完全可以做到與直拉單晶相同的組件功率輸出。

二、尺寸靈活,方寸之間“經(jīng)濟(jì)適用”

“鑫單晶G3”從凝固之初即為大面積立方體,而直拉單晶拉制的一定是圓棒,須由圓棒開方成為長方體的硅錠。從方到方,比從圓到方更經(jīng)濟(jì),鑄錠單晶生產(chǎn)過程中切除余料的比例更低;同時鑄錠單晶尺寸也更為靈活,一個大方錠變動開放尺寸,無論157、158還是166的尺寸,都輕而易舉。與此同時,無論硅片大小,都是全方片,不必糾結(jié)于大倒角還是小倒角。相反對于單晶而言,小倒角意味著圓轉(zhuǎn)方的得率低、硅片成本高,而大倒角,必然會在光伏組件上產(chǎn)生更多的留白,降低組件效率。靈活尺寸才更加“經(jīng)濟(jì)適用”,這一優(yōu)勢使得“鑫單晶G3”更能滿足客戶的定制化尺寸需求。采用166mm邊長的“鑫單晶G3”硅片,疊加MBB、PERC電池工藝以及半片等組件技術(shù),量產(chǎn)平均組件功率輸出可達(dá)到425~430瓦。

三、分布更集中的電阻率分布,高適配PERC電池生產(chǎn)工藝。


晶硅產(chǎn)品的電阻率,與摻雜劑的濃度以及摻雜劑在硅中的分凝系數(shù)相關(guān),而分凝系數(shù)是一個固定的物理數(shù)值。同樣摻雜濃度下,電阻率的分布與硅棒長度呈正相關(guān),即硅棒長度越長、電阻率分布越寬。直拉單晶硅棒屬于瘦長型選手,長度通常高達(dá)3米甚至4米;而鑄錠單晶屬于矮胖型選手,高度通常不會超過半米。即便是在常規(guī)的P型摻雜劑硼的分凝系數(shù)已經(jīng)為0.8、很接近于1的情況下,單晶硅片電阻率的頭尾分布仍然比較寬,硅片的最大電阻率一般是最小電阻率的2-3倍。與之不同,鑄錠單晶硅錠由于凝固的高度較短,其電阻率分布最大值與最小值的差距不超過1.5倍(圖4)。而PERC電池工藝對硅片的電阻率較為敏感,更窄的電阻率分布有利于電池制程的控制。若直拉單晶制造廠商為了進(jìn)一步降低電池衰減,采用鎵作為摻雜劑代替硼摻雜劑,由于鎵的分凝系數(shù)僅為硼的百分之一,這必將造成摻鎵單晶硅棒的電阻率進(jìn)一步分散。另外,鎵摻雜的直拉單晶專利目前尚未到期,而鎵摻雜的鑄錠單晶卻沒有此類知識產(chǎn)權(quán)風(fēng)險。

四、電阻率分布與直拉單晶硅片相比氧含量更低,具有更佳LID及LeTID表現(xiàn)。




目前絕大多數(shù)P型單晶或多晶皆采用硼摻雜,由于硼氧四面體會帶來電池的光致衰減(LID),在同樣電阻率、同樣硼摻雜濃度的前提下,硅片中的間隙氧雜質(zhì)含量就會成為影響電池衰減的重要因素。對比鑄錠單晶和直拉單晶的制造過程,單晶提拉旋轉(zhuǎn)的過程中硅液不斷與以二氧化硅為原料的石英坩堝發(fā)生旋轉(zhuǎn)沖刷,而鑄錠過程相對而言更像一個“安靜的美男子”。目前單晶硅棒可以做到的平均氧含量先進(jìn)水平為11-12ppma,而鑄錠單晶只有該數(shù)值的一半左右(圖5)。這意味著鑄錠單晶電池的光衰一定優(yōu)于直拉單晶電池。而對于LeTID,即高溫光致衰減這一近年來在PERC電池中發(fā)現(xiàn)的獨特現(xiàn)象,目前尚無明確的機(jī)理,公認(rèn)為單晶、多晶都存在這一問題,其檢測標(biāo)準(zhǔn)目前也尚未統(tǒng)一。根據(jù)多數(shù)使用協(xié)鑫“鑫單晶G3”生產(chǎn)PERC電池的廠商反饋,鑄錠單晶的LeTID表現(xiàn)也較為出色(圖6)。同時LeTID的控制與電池工藝本身也高度相關(guān),例如阿特斯陽光電力就有其獨特的控制高溫衰減的方法,可以將鑄錠單晶電池的LeTID控制在1%以內(nèi)的水平。

五、完美適配多種電池組件技術(shù)

PERC、MBB、雙面、MWT、半片、疊瓦、拼片……無論是什么樣的電池組件技術(shù),“鑫單晶G3”都能完美適配。由于鑄錠單晶硅片為全方片,可采用堿制絨或黑硅制絨,對PERC電池、MWT電池都顯示出良好的適用性,其中對于MWT電池更能發(fā)揮其充分利用受光面積的優(yōu)勢、進(jìn)一步提高組件效率;因為沒有倒角,“鑫單晶G3”不僅完全兼容MBB、半片、疊瓦、拼片等技術(shù),外觀上也更為美觀。

無論直拉單晶、多晶還是鑄錠單晶,對于電站投資商及終端用戶而言,選擇的根本依據(jù)最終都會歸結(jié)為:誰的性價比更高。即考量電站的投資成本及平準(zhǔn)化發(fā)電成本(LCOE)。若基于國內(nèi)某一類地區(qū)大型地面電站為典型場景為投資模型進(jìn)行測算,并采用如下測算邊界條件:

1.運(yùn)維費(fèi)用:0.03元/W,每年以3%的速度增長;

2.土地租金:800元/畝;

3.折現(xiàn)率:5%;

4.不含融資成本、耕地占用稅、植被恢復(fù)、清掃機(jī)器人、水保環(huán)保等相關(guān)費(fèi)用;

5.組件的衰減率:單晶PERC首年3%,次年0.6%;“鑫單晶G3”PERC首年衰減率2.5%;次年0.6%。

則測算出的的大致結(jié)果如下表:

(見圖7)

從測算結(jié)果可以看出,單價1.89元/Wp 的72片380瓦“鑫單晶G3”PERC組件與單價1.96元的72片385瓦直拉單晶組件相比,無論靜態(tài)投資成本還是度電成本,鑫單晶組件都具有明顯優(yōu)勢。而保持這一組件單價的差價,在目前“鑫單晶G3”的成本優(yōu)勢及售價定位的情況下,都可以輕而易舉的實現(xiàn)。

未來,光伏平價上網(wǎng)將不再是一句口號,而是光伏人可以切實達(dá)到的目標(biāo)。隨著鑄錠單晶技術(shù)的進(jìn)一步提升、原料利用率的進(jìn)一步提高,其制造成本仍有較大的降低空間。“鑫單晶”系列產(chǎn)品的品質(zhì),也將一如既往的延續(xù)協(xié)鑫最高等級的質(zhì)量穩(wěn)定性,協(xié)鑫將確保其自身品牌的長期競爭力。目前,保利協(xié)鑫“鑫單晶G3”硅片年產(chǎn)能可達(dá)8-10GW以上;由于鑄錠爐體的升級改造相對簡單,隨著158.75mm尺寸“鑫單晶G3”硅片在電池端應(yīng)用的進(jìn)一步放量,“鑫單晶G3”產(chǎn)能的進(jìn)一步提升也易如反掌。在單晶硅片一片難求的市場行情下,物美價廉的保利協(xié)鑫“鑫單晶G3”產(chǎn)品,必將成為平價上網(wǎng)時代的最佳選擇!

原標(biāo)題:多晶的低成本、單晶的高效率——鑄錠單晶,平價上網(wǎng)時代的最佳選擇
 
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來源:PV-Tech新聞
 
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