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企查查數(shù)據(jù)顯示，天合光能新獲得一項實用新型專利授權，專利名為“減反射膜及太陽能電池”，專利申請?zhí)枮镃N202322528346.6，授權日為2024年5月14日。
專利摘要顯示，本實用新型涉及一種減反射膜及太陽能電池。上述減反射膜包括依次層疊設置的氮化硅層、氮氧化硅層以及氧化硅層，氮化硅層、氮氧化硅層和氧化硅層的折射率依次遞減，并且控制氮化硅層、氮氧化硅層和氧化硅層的厚度之比為(30～50)∶(15～25)∶(25～35)，相較于傳統(tǒng)的氮化硅減反膜，能夠降低光反射率。上述減反射膜可設置在電池片基體的正面和/或背面上，其中，氮氧化硅層最靠近于電池片基體，氮氧化硅層位于氮化硅層遠離電池片基體的一側，氧化硅層位于氮氧化硅層遠離氮化硅層的一側。上述減反射膜能夠提升太陽能電池的光電轉換效率。上述減反射膜設置在太陽能電池的背面時，能夠更好地提升背面效率，提升雙面率。

原標題：天合光能獲得實用新型專利授權: "減反射膜及太陽能電池"