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 編者按：隨著第二批設(shè)計(jì)了單晶組件的領(lǐng)跑者項(xiàng)目無(wú)法并網(wǎng)而減少了需求，第三批領(lǐng)跑者計(jì)劃項(xiàng)目技術(shù)指標(biāo)不再特別照顧單晶。2017年三季度末以來(lái)已經(jīng)看到單晶硅片、電池、組件全產(chǎn)業(yè)鏈出現(xiàn)需求急劇下滑，價(jià)格下調(diào)仍未見(jiàn)市場(chǎng)回暖。而多晶系列全線開(kāi)足產(chǎn)能，以合理價(jià)格和高性?xún)r(jià)比滿(mǎn)足了旺盛的市場(chǎng)需求。

“一上午的時(shí)間不夠，都快過(guò)飯點(diǎn)兒了”，上周末，在徐州舉辦的第十三屆中國(guó)太陽(yáng)級(jí)硅及光伏發(fā)電研討會(huì)“黑硅技術(shù)與應(yīng)用”論壇上，主持人保利協(xié)鑫切片事業(yè)部副總裁金善明不禁感慨。在短短的半天時(shí)間內(nèi)，20余位業(yè)內(nèi)頂尖專(zhuān)家、企業(yè)技術(shù)負(fù)責(zé)人就金剛線和黑硅技術(shù)分別作主旨報(bào)告，多晶性?xún)r(jià)比的大幅提升成為嘉賓討論最多的話題。

單多晶回到相同起跑“線”

好似黑硅的孿生兄弟，多晶金剛線推廣速度成為黑硅論壇上的熱門(mén)議題。

“金剛線切割相對(duì)于砂線切割，具有切割速度快、損耗低、環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)，”作為國(guó)內(nèi)金剛線生產(chǎn)領(lǐng)軍企業(yè)，岱勒新材鐘建明總監(jiān)表示，“單晶金剛線切片已經(jīng)廣泛應(yīng)用，而今年體量更大的多晶金剛線推廣速度遠(yuǎn)超預(yù)期。以往單晶全部使用金剛線切割也沒(méi)有多大的需求量，現(xiàn)在多晶也轉(zhuǎn)金剛線切割后，對(duì)金剛線的需求是巨量放大，預(yù)計(jì)2018年全行業(yè)多晶用金剛線切割占90%以上，主要是上半年才改完”。

金剛線一直被認(rèn)為是單晶的“殺手锏”，2016年，單晶率先推廣金剛線切割，市場(chǎng)份額增長(zhǎng)。而隨著保利協(xié)鑫等多晶廠商逐步克服金剛線切割機(jī)臺(tái)改造難題，金剛線切割將迎來(lái)多晶時(shí)代。

“已經(jīng)改了80%，年底全改完。MB271機(jī)型全部改完了，A片切割良率穩(wěn)定在92%以上超過(guò)專(zhuān)用機(jī)，B5機(jī)臺(tái)改造難題也已經(jīng)突破量產(chǎn)在即，改造成本為買(mǎi)專(zhuān)機(jī)的十分之一”，金善明自信的說(shuō)。隨著金剛線在多晶硅片領(lǐng)域的規(guī)模推廣，切片端單晶成本優(yōu)勢(shì)不再。

單晶和多晶的差異僅在長(zhǎng)晶端。阿特斯技術(shù)總監(jiān)王栩生的報(bào)告顯示，單晶拉棒的單位硅錠耗電約為75KWh/Kg，單爐月產(chǎn)能約3噸，而多晶鑄錠的單位耗電約為12KWh/Kg，單爐月產(chǎn)能約9噸。長(zhǎng)晶環(huán)節(jié)差異是單晶、多晶產(chǎn)品成本差異的主要因素，而且拉棒工藝特征決定很難再降低電耗。

“未來(lái)降本還是靠金剛線”，金善明認(rèn)為，“對(duì)保利協(xié)鑫來(lái)說(shuō)，金剛線技術(shù)降本作用仍未完全釋放。全部產(chǎn)線改完、切片速度提高、單刀線耗降低、產(chǎn)品良率提高后，硅片成本會(huì)再大幅降低。當(dāng)前金剛線供不應(yīng)求，價(jià)格偏高，優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品比例低、供貨廠家分散。希望未來(lái)可以帶動(dòng)上游相關(guān)優(yōu)質(zhì)企業(yè)共同發(fā)展，推動(dòng)金剛線細(xì)線化，降低金剛線價(jià)格并提升質(zhì)量。”

資料顯示，金剛線成本占據(jù)硅片總成本的17%，是除了多晶硅料外的第二大成本貢獻(xiàn)點(diǎn)。未來(lái)硅片成本的下降取決于于線徑和硅片厚度的降低。

“隨著多晶鑄錠晶體硬質(zhì)點(diǎn)的減少，金剛線強(qiáng)度的增加，單多晶切割將共同邁向細(xì)線化”，鐘建明在會(huì)上公布了岱勒新材金剛線細(xì)線化路線圖：2017年單晶主流線徑65μm，多晶70μm;2018年單晶60μm，多晶65μm，到2020年，單多晶均可以用50μm的金剛線。

成熟黑硅技術(shù)再次提升多晶性?xún)r(jià)比

據(jù)統(tǒng)計(jì)，2017年底國(guó)內(nèi)濕法黑硅設(shè)備已經(jīng)超過(guò)100臺(tái)，產(chǎn)能超過(guò)10吉瓦。前幾年高效多晶技術(shù)的主攻方向是圍繞晶體結(jié)構(gòu)進(jìn)行體材料提效，近一年則是以黑硅技術(shù)為代表的硅片表面提效。

“切片環(huán)節(jié)主要解決的是降本問(wèn)題，而配套的黑硅技術(shù)則在降本、提效方面都有提升空間。”金善明表示，保利協(xié)鑫第二代黑硅片加工成本可降低40%。預(yù)計(jì)到明年一季度大規(guī)模量產(chǎn)后，可以將黑硅加工成本控制在0.1元/片，功率增益提升至5瓦。按照當(dāng)前的組件價(jià)格計(jì)算，黑硅組件有0.05元/瓦的增益，而成本只上升了0.02元/瓦左右。

黑硅制絨之前，普及金剛線切割的多晶硅片已經(jīng)降本0.5-0.8元/片，而且，黑硅制絨后的多晶硅片可以直接上電池線，替代了傳統(tǒng)酸制絨環(huán)節(jié)。

王栩生同時(shí)認(rèn)為，黑硅技術(shù)能夠與高效PERC技術(shù)高度匹配，經(jīng)驗(yàn)證，黑硅+PERC可以提效1.2%-1.5%，實(shí)現(xiàn)“1+1>2”的效果。“而且，阿特斯?jié)穹ê诠杞M件有更好的弱光特性，更低的組件表面溫度，更高的歸一化發(fā)電量”，王栩生說(shuō)。

“顏值問(wèn)題將也不再是多晶組件的困擾，”上海交通大學(xué)莊宇峰博士在報(bào)告中表示，濕法黑硅技術(shù)已經(jīng)完全成熟，而且可在不同晶面上實(shí)現(xiàn)同樣的微、納米絨面，消除晶界，解決電池片的色差問(wèn)題，基本實(shí)現(xiàn)外觀單晶化，而且結(jié)合PERC工藝，電池性能進(jìn)一步提升。

針對(duì)黑硅技術(shù)提效是否有瓶頸問(wèn)題，蘇州大學(xué)教授蘇曉東認(rèn)為，常規(guī)絨面反射率24%，濕法黑硅絨面反射率16-18%，以20%內(nèi)光電效率計(jì)算，未來(lái)提升1.2-1.6%可能性很大。

“多晶性?xún)r(jià)比優(yōu)勢(shì)將再擴(kuò)大，單多晶市場(chǎng)份額最終也將會(huì)由市場(chǎng)來(lái)決定，而不再是政策”，王栩生說(shuō)。隨著第二批設(shè)計(jì)了單晶組件的領(lǐng)跑者項(xiàng)目無(wú)法并網(wǎng)而減少了需求，第三批領(lǐng)跑者計(jì)劃項(xiàng)目技術(shù)指標(biāo)不再特別照顧單晶。2017年三季度末以來(lái)已經(jīng)看到單晶硅片、電池、組件全產(chǎn)業(yè)鏈出現(xiàn)需求急劇下滑，價(jià)格下調(diào)仍未見(jiàn)市場(chǎng)回暖。而多晶系列全線開(kāi)足產(chǎn)能，以合理價(jià)格和高性?xún)r(jià)比滿(mǎn)足了旺盛的市場(chǎng)需求。

原標(biāo)題：阿特斯王栩生：?jiǎn)味嗑袌?chǎng)份額最終由市場(chǎng)決定