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無錫松煜科技有限公司，成立于2017年12月，研發(fā)團隊專業(yè)從事工藝設備制造與研發(fā)二十年，擁有多位資深設備專家。主要生產光伏和半導體設備，ALD原子層沉積、擴散系列、LPCVD、PECVD、立式爐、真空設備等等。從2018年開始，團隊研發(fā)了ALD原子層沉積氧化鋁設備，并一舉推向了PERC技術領域，獲得了數(shù)億元的訂單，到第三季度截止，設備將有望突破100臺！2018年開始公司還布局了TOPCon戰(zhàn)略技術，于2019年8月，我們制作了第一臺“PECVD三合一poly”設備，并申請了相關專利；于2020年1月疫情爆發(fā)開始，我們出貨了“豎插式放片，穿插式氣流”全尺寸兼容的大產能硼/磷擴散爐，LPCVD，PECVD等設備；同時申請了相關多項發(fā)明和實用新型專利，涉及“豎插”插片方式、特殊爐門結構、高承重SiC方形&圓形槳、大石英舟托、小石英舟、特殊尾排系統(tǒng)等。

1、目前業(yè)內有哪幾家在用此技術，是否是嫁接在現(xiàn)有產線上還是全新產線？效果如何？

回復：業(yè)內主要有中來、晶科在大批量在生產，晶澳、天合、通威、阿特斯有中試線，但是都有擴新線的信息發(fā)布了，另，三、四線、新玩家在準備或已經(jīng)公布了上新線的計劃，并且新上PERC產線都都預留了TOPCon升級空間，目前的效率能夠達到24.4-24.8%左右，具體看各家組件功率的CTM指標，良率也基本在94%-95%左右。甚至一些產線目前效率已到24.9%，良率在97%-98%。

2、不同沉積方式的差別（LPCVD、PECVD、PEALD、POPAid）？

回復：從目前來看的話，LPCVD技術為主，過去國內外研發(fā)機構的數(shù)據(jù)來看，整個TOPCon技術還是圍繞LPCVD工藝進行匹配，成膜質量更好，而且其產能大，維護比較方便；PECVD雖然沉積速度快，但是可能出現(xiàn)爆膜以及造成粉塵的產生，對于效率會有所影響，另，大批量數(shù)據(jù)中對于石墨舟、石英管等的維護還沒有很多數(shù)據(jù)出來；PEALD，理念還是不錯的，具體使用情況還要看整個行業(yè)的綜合評估；POPAid，整體的技術理念不錯，是圍繞TOPCon工藝流程做了精減，具體的產能、開機率等指標，還要看主流客戶使用情況。

3、集成原位摻雜與單獨磷注入的差別？

回復：原位摻雜因為磷烷抑制了非晶硅的成膜速率，會導致其均勻性變差。另外它要兼容均勻性和方阻，所以控制會比較難；而用本征來做磷擴，兼容性會比較好，也容易控制。另外，PH3的安全控制要求比較高。

4、PERC升級TOPCon工藝路線的設備成本？

回復：這個要看實際狀況，相信大家都能理解，一般GW級別目前大概在5-6千萬左右，僅供參考；

5、生產運行中SiO2的厚度如何檢測？

回復：生產運行中，二氧化硅的厚度是很難檢測的，其實我們也不建議在生產過程中做二氧化硅的檢測，可以從鈍化數(shù)據(jù)（iVoc、Jo、lifetime）、其他工序的監(jiān)控的方阻等反應出來，最終看下電池效率。

6、LPCVD方式的優(yōu)點、均勻性情況？

回復：LPCVD的優(yōu)點：產能大（行業(yè)主流單插雙面鍍工藝，我司單管裝片量1430片），易于維護，是一個比較成熟的設備；而均勻性目前可以做到4%3%3%這樣水平。

9、TOPCon對漿料的要求？

回復：漿料對于整體電性能提升作用很大，在玻璃體系中，對于有機和無機方面都做了相應調整，另，國產如聚合、帝科的崛起，對于漿料也意味著有較大的降本空間。

10、對于TOPCon而言，PECVD方式氧化鋁和ALD方式氧化鋁有什么差異？

回復：TOPCon在硼面的絨面上鈍化，表面形貌和表面積都不一樣，這樣PECVD二合一的生長方式速率快，整個致密性不足，會導致鈍化效果和ALD還不是一個量級。

11、管式ALD和平板ALD方式氧化鋁有什么差異？

回復：管式屬于時間方式的ALD，目前從鈍化效果、產能、維護費用、占地面積等都有比較大的優(yōu)勢；平板ALD，對于繞鍍方面確實不錯；另，我司的ALD現(xiàn)在PERC里面主流單插雙面鍍（臭氧工藝），TOPCon技術我司有獨特的O3+H2O工藝匹配，客戶端有的用雙插單面鍍（外觀有可接受的標準）；單插雙面鍍，匹配PE-poly比競爭對手高0.06%左右的Eta提升。

12、TOPCon產線設備投資相對于PERC預計這個臨界點出現(xiàn)在什么時候？

回復：從目前來看，已經(jīng)到了一個開始的元年，現(xiàn)在一線X廠的Wafer厚度到了130-140um，轉換效率24.9%，良率也達到了PERC水平，組件功率也達到了565-570W，從整個加工成本來看基本打平，加上組件端的溢價，還是比較不錯的，從最新的一線大廠和跨行新玩家的擴產計劃來看，這個趨勢比較明顯了。

13、目前新建1GW的TOPCon產線，大約多少億？

回復：大概1.5-1.9億左右吧，最終要看各家配置。

14、未來兩三年N型硅片的主流尺寸和片厚會是怎樣？

回復：目前只能說大尺寸230及以下、110-120um厚度肯定是未來的趨勢，當然也要看整個設備，特別是自動化的優(yōu)化進度。

15、對于多晶硅繞鍍清洗，酸堿法清洗誰更有優(yōu)勢，鏈式和槽式誰更有優(yōu)勢？

回復：目前酸堿都能去除，最終還是要看工藝的匹配以及綜合性價比來選擇。

16、N-TOPCon擴散工藝會使用到BBr3或BCl3氣體，請問兩者優(yōu)缺點為何？

回復：基本上都是BCL3了，從工藝控制、石英件的損耗、綜合運營成本都是優(yōu)于BBr3。

17、TOPCon技術與現(xiàn)有組件技術能否有效兼容，比如疊片，半片，大硅片，雙面等？

回復：TOPCon能夠有效的兼容半片、疊片、大硅片以及雙面組件

18、PERC+可以疊加TOPCon技術進去的，另外，LP爐管壽命是多久？

回復：關于延長石英管壽命，目前有很多方法予以解決，設計上也都有很多專利保護。

19、豎插放片，會不會有很重的舟齒??？會不會扭曲變形？

回復：不會，舟印只跟石英舟的質量或者清洗飽和工藝有關系，另，我們是有3度角傾斜，加上舟槽的獨特設計，給予了硅片充分的變形空間，沒有發(fā)生不良問題。

20、豎插放片小舟兩側的方阻會不會有問題？因為熱輻射的原因？

回復：從硼擴來看，不管是豎插還是水平插，片內均勻性非常好的，片間的均勻性水平插片可能存在上中下三個區(qū)域的方阻離散度偏大的情況；豎插放片，工藝有N2充入垂直對流加熱，不存在這個問題。從磷擴來看，做高方阻大于150ohm以上，會有兩側的方阻偏低的現(xiàn)象，但是做TOPCon磷擴散70-80ohm，是沒有問題的。

21、豎插式放片自動化設備配套情況？

回復：整個行業(yè)，不管是豎插，還是水平插，已經(jīng)是硼擴、LP的主流了，市面上的主流自動化廠家都能配置。

22、TOPCon成本降低的降本潛力？

回復：TOPCon成本下降的潛力巨大，隨著整個行業(yè)GW數(shù)的增加，硅片、化學品、銀漿的耗量以及成本的下降空間也很大；另，電池制程效率、良率的表現(xiàn)的不斷提高，整個cost down還是有非常大的空間的；早在2022年初，我們就預測N型TOPCon的轉換效率肯定能突破25%，現(xiàn)在來看，一線x大廠已經(jīng)提前看到了曙光。

23、怎么看待TOPCon和IBC兩種技術路線？

回復：TOPCon整個特點上面已經(jīng)敘述了，IBC從整個工藝來看，也是不錯的選擇，特別是P型IBC，從硅片成本方面都有一些優(yōu)勢，那后面還是要看各自的提效降本綜合表現(xiàn)，另，對于我司來講，ALD（管式雙面氧化鋁的優(yōu)執(zhí)）和LPCVD依然可以發(fā)揮作用。

近年來，隨著全球氣候變暖的形式越加嚴峻，各種自然災害頻發(fā)，人類解決這些問題的時間將越加緊迫，對于全球最大的發(fā)展中國家來講，我國在近年來中央經(jīng)濟工作會議多次指出，我國二氧化碳排放力爭2030年前達到峰值，力爭2060年前實現(xiàn)碳中和。要抓緊制定2030年前碳排放達峰行動方案，支持有條件的地方率先達峰。要加快調整優(yōu)化產業(yè)結構、能源結構，推動煤炭消費盡早達峰，大力發(fā)展新能源，加快建設全國用能權、碳排放權交易市場，完善能源消費雙控制度。要繼續(xù)打好污染防治攻堅戰(zhàn)，實現(xiàn)減污降碳協(xié)同效應。要開展大規(guī)模國土綠化行動，提升生態(tài)系統(tǒng)碳匯能力。為滿足這一目標，太陽能在一次能源中的比例將大幅上漲。光伏系統(tǒng)的靈活性和普遍性使其成為未來最具前途的可再生能源，隨著光伏PERC電池技術提效空間漸趨殆盡，尺寸升級成為光伏組件提高功率的重要途徑。然而長達一年多的182與210之爭，最終卻演變?yōu)槿袠I(yè)內卷。進一步提升轉換效率，加速N型技術迭代升級，正成為光伏企業(yè)占據(jù)產業(yè)鏈競爭優(yōu)勢的首選。相較于N型異質結，將PERC升級TOPCon可以最大程度保留和利用現(xiàn)有設備，且主流電池企業(yè)均擁有相關技術儲備，是N型電池制造最具競爭力和性價比優(yōu)勢的技術路線。

原標題：PERC升級TOPCon的工藝設備與技術